특허등록
HS (High Stream) Mill
연속 순환 Pass식 분산 장치
Batch 방식이 아닌 Feed Pump 투입 방식의 밀페 연속식 으로 사용하도록 설계된 분산장치입니다
대 유량 ( High Stream ) 토출방식 채택
단일 용기만을 사용하여 연속 순환되는 방식으로 Mill 토출부를 대면적화 하여 대유량 토출을 가능케하여 용기 교체 없이 단일
용기에서 분산이 완성되는 분산 자동화 달성
Metal Free ( ZrO2. Tungsten 등 내마모 소재화 )
각종 전자재료. 기능성 원료 등의 분산에서 분산 오염을 차단하기 위하여 ZrO2. Tungsten 등의 특수 소재로 접액부를 설계하여
Mill 내부의 마모 오염 ( Metal 마모 )을 방지 합니다
100 ~ 300 Nano 급 분산
0.3mm ~ 0.8mm 미세비드 적용과 빠른 주속 ( Peripheal Speed ) 설계로 100 ~ 300 Nano 급 초미세 분산이 가능합니다.
( 반복적 순환 Pass 필요 )
연속식 Automatic Control / 자동화 및 순차 투입 System
분산액을 비롯하여 메카니컬 봉액 관리에서 온도. 압력. Level 등 각종 Inter-Lock 기능으로 Operation 자동화가 가능하고 Sensor
관리에 의한 순차 투입 System 적용으로 효율적인 분산 System 구축이 가능합니다.
고점도 고칙소 Paste 까지 분산 가능
대 유량 토출방식 구조로 Mill 외부 전체에 Screen을 가공하여 액 유출부가 커저 100,000 CPs 정도의 중 고점도 Paste 액까지
분산이 가능합니다.
저온 분산
대 유량 토출방식인 관계로 밀 내부 체류시간이 짧아 발열량이 적어 저온 환경에서 분산이 가능 합니다.
HS Mill 주 적용 분야 ( Main Application )
HS Mill 의 장치 구성
