특허등록
기본특징
0.05mm ~ 0.1mm 초 미세 비드 적용
원심 분리방식으로 0.05mm ~ 0.1mm 급의 초미세 Beads 적용 설계하여 초미세 Nano Class 분산에 적용 됩니다.
Metal Free ( ZrO2 소재화 )
각종 전자재료. 기능성 원료 등의 분산시 2차 오염을 방지하기위하여 ZrO2 등으로 로 접액부 설계하여 오염
( Metal 마모 )을 방지 합니다.
50 Nano 급 분산
미세비드 적용과 빠른 주속 ( Peripheral Speed ) 설계로 30 ~ 50 Nano 급 초미세 분산이 가능합니다.
연속식 Automatic Control / 자동화 및 순차 투입 System
분산액을 비롯하여 메카니컬 봉액 관리에서 온도. 압력. Level 등 각종 Inter-Lock 기능으로 Operation 자동화가 가능하고 Sensor
관리에 의한 순차 투입 System 적용으로 효율적인 분산 System 구축이 가능합니다.
일차 입자 형상 유지 ( Primary Particle shape 보존 )
초미세 비드 적용으로 Milling 특성에 있어 1차 입자의 형상을 최대한 보전하여 분산하여 원료 특성을 최대한 유지하여 줍니다.
저점도 분산
원심 분리 방식의 특성상 3,000cps 이상의 고점도 액상은 효율저하로 적용이 어려운 편이고 주로 100 ~ 1,000 cps 정도의 저점도
액상에 주로 적용 됩니다.
주용도
모델별 규격
구분 | Model | Mill Volume |
적용 비듀 규격 |
Outside Dimension | Main motor |
---|---|---|---|---|---|
Lab, Scale 연구개발용 |
NM 006 | 0.6L | 0.05mm ~ 0.3mm | 880Dx770Wx1,200Hmm | 2.2 ~ 3.75KW |
NM 012 | 1.2L | 920Dx720Wx1,440Hmm | 5.5 ~ 7.5KW | ||
Mass Scale 양산용 |
NM 030 | 3.0L | 1,040Dx870Wx1,690Hmm | 11 ~ 15KW | |
NM 050 | 5.0L | 1,180Dx910Wx1,800Hmm | 18.5 ~ 22KW | ||
NM 100 | 10.0L | 1,250Dx1,010Wx1,960Hmm | 22 ~ 30KW | ||
NM 200 | 20.0L | 1,450Dx1,280Wx2,200Hmm | 37 ~ 45KW | ||
NM 300 | 30.0L | 1,560Dx1,280Wx2,520Hmm | 55 ~ 75KW |
장치별 사진 및 자료
Lab. Scale
MN 012 Ti02 분산용
MN 012 Pigment 분산용
Mass Production Scale
MN 200 양산기종
사용예 (Nano-Max 분산 System 개념도)