특허등록

분산부의 상호 역회전

분산 로터와 분산 베셀의 상호 역회전

• 분산성을 효율적으로 올리기 위하여 Mill 내부의 고속 Rotor 부의 정회전과는 반대로 분산 Vessel ( Basket )을 동시
  역회전시켜, Mill 내부에서 발생하는 전단력 ( Shear force ) 과 마찰력 등이 대폭 기존의 Basket Mill 보다 증가
  시켰습니다.
• 분산부 내부 Shear Force 및 내부 마찰 활동 증가로 기존의 Basket Mill 계열의 범용 분산장치 보다 분산성
  개선과 아울러 고점도 처리 능력도 대폭 개선 되었습니다
• Fine 분산성과 아울러 Mill 소재도 기존의 Stainless 와 더불어 ZrO₂. 특수 Resin. Tungsten Carbide 등으로
  설계하여 오염에 민감한 전자재료 ( 도전. 방열. 절연. 등 ) Bio. 화장품. 반도체, 정밀 도료, 등의 다양한 산업에
  적용되고 있습니다

주용도

• CNT. Graphene. Carbon. Ferrite 등의 전도성. 방열 소재
• 고점도 고농도 / Paste 분산. 수지 Base 분산
• 전자 재료 ( Ni. Ag 등 기타 도전 재료. 절연 재료. Battery 재료 등 )
• 식품 용도의 기능성 원료 ( 강황. Bee Pollen. 홍삼 한약 분말. 드레싱 등 )
• 화장품 용도 ( Sun Cream. Foundation. 색소 Base 등 )
• Nano 급 정밀 분산 / 잉크, SiO₂, 금속 산화물 등의 Slurry 분산
• 저점도 정밀 잉크 및 도료
• 고점도 Paste 용액 분산 : 최대 50,000 ~ 100,000 CPs 고점도 Paste

특징

• 01. 더욱 향상된 분산 능력으로 나노분산 적용이 가능합니다.

  - 저 점도 계열 분산액 : 50 ~ 150 나노 급 까지 분산.
  - 고 점도 계열 분산액 : 200 ~ 500 나노 급 까지 분산 시 주로 적용

• 02. 비오염 분산이 가능합니다 ( Metal Free )

  분산부 소재를 용도에 맞추어 ZrO₂, Al₂O₃, Tungsten Carbide 등으로 제작하여 Bio. 화장품. 반도체, 식품, 정밀 전자재료
  ( 도전. 절연 )등 의 Metal Free 분산을 필요로 하는 소재 분산, 분산에 적합합니다.

• 03. 분산부의 내마모 성능이 대폭 향상 되었습니다.

  분산부가 경도 및 내마모성이 우수한 Tungsten Carbide, ZrO₂ 등의 소재로 가공 되어 장시간 내구성이 보강 되었고
  마모성이 심한 SiO₂, Al₂O₃ 등의 Slurry 분산에도 적용 가능합니다.

• 04. 저점도는 물론 고점도 분산 능력이 대폭 향상 되었습니다.

  - Vessel역회전 원리가 적용되어 일반 Basket 밀에서는 처리가 안되는 30,000 ~ 100,000 CPS 의 고점도 영역의 분산까지
    가능합니다.
  - 고점도 분산이 필요한 CNT. Carbon. 금속계 Paste. 수지 Base 분산체, Sun Cream. Foundation 등의 화장품 원료, 이와같은 분산
    분야에도 다양하게 사용되고 있습니다.

• 05. 저렴한 유지보수와 뛰어난 세척편의성 그리고 자동화

  - 내마모성이 극히 우수한 분산부 외에도 분산장치에 투입 펌프, 메카니컬실, 각종계기. 배관 등이 일체 없어 고장이 없고
    세척성이 매우 우수합니다.
  - 분산부의 간단한 세척성으로 소량 다 품종 생산에 우수한 능력을 갇고 있습니다.
    또한 제품의 온도. 시간. 부하제어로 자동화 및 무인 운전이 가능하여 인건비 절감 효과가 매우 우수 합니다.

• 06. 미세비드 적용 가능

  그동안 Basket 계열의 분산장치에서는 1.0mm 이하의 비드는 적용이 불가능하였는데 본 Rotate Mill 에서는 0.5mm 의
  미세 비드까지 적용이 가능하도록 정밀 설계 하여 나노급 분산이 가능 하도록 한다.

RRG 100 모델 0.5mm 비드 적용 분산예